仪器生产商： 日立

资产编号： S2600322-1

资产负责人： 宋春晓

购置日期：2026-01-16

仪器价格：13.76 万元

仪器产地：日本

仪器供应商：

购买经办人：

主要配件： Pt靶

主要参数：类型：磁控二极管放电型（电场垂直于磁场） 电极组成：方向平行盘（嵌入磁铁） 喷镀速率：15nm/min（Pt靶，7Pa，40mA）；35nm/min(Au靶， 7Pa，40mA) 最大样品尺寸：ф60mm*20mm

仪器介绍：离子溅射仪是一种用于样品表面处理的真空镀膜设备。其在真空环境下利用高能离子轰击靶材表面，使靶材表面的原子获得能量并被抛出，形成薄膜沉积在样品表面。离子溅射仪对非导电或导电性差的样品（如生物组织、高分子材料、陶瓷等）表面镀膜，可提高其导电性，避免在SEM观测时因电荷积累导致的图像失真或漂移。并增加二次电子发射效率，使电镜图像更清晰、细节更丰富。被广泛应用于扫描电子显微镜（SEM）、能谱仪（EDS）等分析仪器的样品制备。

应用领域：

管理规则：

实验规则：

培训指南：